KF 系列真空系統氣體過濾器憑借其便捷的安裝特性與卓越的性能，成為真空系統的理想配套組件，尤其在優化回填過程中表現突出 —— 能夠實現清潔、快速且低湍流的回填操作，進而有效提升產品產量與設備整體吞吐量，為生產效率的提升提供有力支持。

在遵循規范安裝要求與標準操作條件的前提下，該過濾器可確保產品完整性穩定達到3.000.000 次循環，具備優異的耐用性與可靠性，能長期保障真空系統的穩定運行。

其應用場景廣泛，核心覆蓋半導體領域關鍵設備與腔體：

●?半導體設備接口：適配化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)、刻蝕(Etch)、外延生長(Epi)等核心半導體工藝設備;

●?各類真空室：可用于裝載鎖、傳輸腔、冷卻腔、工藝腔體等真空環境的通風需求，尤其適合短時間內需傳遞大量氣體流的工況，能從容應對高流量氣體傳輸場景。

產品特點

●?優化氣流穩定性：有效減少工藝腔體排氣過程中產生的湍流，避免氣流紊亂對工藝精度與產品質量造成影響，保障腔體內部環境穩定;

●?兼容性廣泛：適用于多種類型的工藝氣體，無需針對不同氣體頻繁更換過濾器，降低設備維護成本與操作復雜度;

●?高潔凈標準：全程在潔凈室環境中完成制造、測試與包裝流程，從生產源頭控制污染物，確保過濾器本身無雜質引入，滿足高潔凈度工藝要求;

●?品質絕對保障：每臺過濾器均經過 100% 完整性測試，只有完全符合性能標準的產品才可出廠，杜絕不合格產品流入市場，為用戶提供可靠的品質承諾。